sp;   后面两个算是浪漫阵营，纯理论研究，他们就没想过产业化的事情。

    而euv太超前，短期内根本无法实现。

    我个人还是更看好尼康的干式157nm技术路径。”

    卿云笑了，他懒得和程进扯什么科学英雄史观的问题，更没兴趣和他聊技术路径路径，开口说道，

    “荷兰的asml正在和林本坚一起共同攻坚浸入式光刻技术。”

    程进闻言摇了摇头，“没用的，浸入式通过水滴折射确实可以跳过157nm，直接做到134nm波长，而后就会被65nm的最高生产分辨率给卡住，到时候怎么办？

    小卿，光刻是要遵循瑞利公式的，λ为光源波长、na为数值孔径、k为光刻工艺系数，三者共同决定投影式光刻机分辨率cd。

    光刻机的分辨率与光源波长成正比，想要制造出更小的尺寸，就需要缩短光源的波长，这也是光刻机世代演变的核心。

    所以，你不管怎么折射，最终还是要通过光源的波长来解决问题。”

    熟知后事的卿云很清楚，程进说的是对的。

    浸入式、浸没式、浸润式，其光源都是193nm激光器，随后是根据瑞利公式的另一个参数：孔径，来实现精度的提高。

    再之后，便是二次曝光技术，同样是基于193nm的光源。

    而最终，在duv后，asml还是走了波长13.5nm的euv路径。

    但那是十来年后的事情了。

    彼时的asml已经一家独大，它的领先优势可以随意切换赛道，但此时的光刻机市场却并非如此。

    此时还是群雄混战时期，谁先突破，便是赢家通吃。

    asml与尼康佳能的光刻机之战，其实是一个弱者在走投无路之下，抱着‘光脚的不怕穿鞋的’的赌命心态进行绝地突围的故事。

    asml能赢，并不在于林本坚的技术有多先进，而是在于林本坚给出了一个商业友好性极强的工艺方案。

    在asml推出浸入式193nm产品的半年后，尼康也宣布自己的157nm产品以及epl产品样机完成。

    然而，林本坚的浸入式属于小改进大效果，产品成熟度非常高，所以几乎没有人去订尼康的新品。

    而半导体产品就是这样的特点，市场说了算。

    赢得了市场，赢得了迭代的机会。

    他想了想，还是耐心说道，“老师，您知道，我是一个商人。所以我习惯用商业的角度来看待问题。”

    拿起矿泉水抿了一口，卿云继续说着，“您说，从投入……或者说对当前工艺的改进角度看，走157nm还是走浸入式193nm容易？”

    程进茫然的看着他，摇摇头表示不知道，“但是技术路径就在摆着啊，科研是要攻坚克难的。”

    卿云见状也只能无奈的耸了耸肩膀，“科研是科研的事，但作为一个企业家，我告诉你，我肯定选容易的。

    有钱有市场我能继续出钱让科研研究下去，没钱我啥事都做不了。”

    程进闻言嘶了一声，他好像明白了点。

    卿云哂然一笑，“我们想要追赶别人，最好的法子是什么？”

    “弯道超车？”

    程进嗤笑了一声，他表示，这个口号已经喊了20年了，至少在半导体产业来说，是越超越离世界顶尖水平越远。

    卿云翻了一个白眼，“是让敌人陷入泥潭里。”

    他双手一摊，“193nm光刻工艺，全世界已经卡了20多年了，我们才刚刚起步，去年华电科45所才开始进行研究。

    也就是说，从代际差距来看，此时我们和国际没太大区别，对吧？”

    程进觉得自己牙齿有点疼。

    特么的，要从这个角度说，确实没啥差距。

    但特么的光刻机岂止是光源问题？

    卿云见状笑了笑，“我知道差的还很远，但我们现在看得见对吧？但是如果他们走的慢一点，我们是不是差距就越小？

    作为商人来说，197nm浸入式立刻可以实现65nm的生产，将现在130nm工艺直接提到半周期。

    而走干式157nm，他们还需要从现在的130nm开始，连续走好几代才能达到65nm水平。

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