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第二百三十一章 量产28纳米芯片,觊觎华耀的芯片设计方案

些吃力,担心追不上房价上涨的速度。

    心中涌起一番感动,老板对他的关照,被他深深记下。

    “又不是不要还?开心什么?”

    陈河宇打趣道。

    ……

    少顷。

    再次来到广蓝路软件园,紫港电子的招牌业已换成了山海微电,重新焕发新生。

    来往的工作人员脸上,写满自豪之情。

    所有人都知道,今天上午,公司即将进行28纳米芯片的生产启动会,若是能圆满成功,就可以成为华国第一家实现中高端芯片大规模量产的半导体企业。

    这意味着大量的订单,急剧膨胀的市值,和丰厚的奖金!

    与公司的每一个人息息相关,在陈河宇掌权后,对山海微电的组织架构梳理重塑,留下来的人基本领到了一份分红股权。

    每到年底,会根据净利润额进行奖金分配,大大提高了员工的研发生产积极性。

    “陈总,芯片的掩膜模板制作完成,我们可以先去光刻机车间参观。”

    何婷波迎了上来。

    “老板。”

    王茂松招呼道。

    “按你说得来,预估良品率能控制在多少?”

    陈河宇走在前方,侧身问道。

    “结合实验室的数据,粗略判断在80%以上。”

    技术方面的核心参数,何婷波最为熟悉,不假思索道。

    “低了一些,要是那100台NXT1950iDUV光刻机到货以后,还有下降的空间吗?”

    陈河宇追问道。

    20%的报损率着实有些高,但没办法,山海微电的光刻机大多都是老旧的设施,能正常刻录芯片就算不错了,不敢奢望太多。

    对比国产光刻机70%的良品率,这个数值勉强还能接受。

    “估计可以做到90%!”

    何婷波回道。

    英特、波通这些芯片巨头,基本也是使用的NXT1950iDUV光刻机,良品率稳定在90%。

    “嗯,我知道了。”

    陈河宇点点头回道,在EUV光刻机还未诞生的年代,90%的良品率实属不易。

    要等到2018年,EUV光刻机得到广泛应用,才能应对日益精密的半导体制造需求,极大提升良品率问题。

    这是因为EUV光刻机采用的是极紫外光源,而DUV光刻机使用的是深紫外光源。

    EUV光源的波长约为13.5纳米,比DUV光源的波长要短得多,可以实现更加精细的分辨率和更小的工艺尺寸,较短的波长能够产生更细腻的图像。

    但并不是没有缺点,制造和维护成本都较高,光源的稳定性、镜片制造依旧是个难题,没有三五年,想要应用到半导体工业中,简直痴心妄想。

    一行人来到制造部门,换上无尘服、静电消除鞋、帽子和头套,以及防护面罩,以应对车间中可能存在的一些化学品喷洒、粉尘飞扬等风险。

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